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Proyecto innovador ganador de Samsung EGO Innovation Project

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proyecto innovadorSamsung EGO Innovation Project, el certamen que une moda y tecnología, ha nombrado ganador de su octava edición a la firma ZAP & BUJ por su proyecto Wall dress. Se trata de una interesante propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. Este proyecto innovador, que verá la luz el próximo 19 de septiembre sobre la pasarela Samsung EGO, presenta una nueva forma de comprender la arquitectura y la moda dentro del mismo campo.

Elena Zapico y Raquel Buj son las mentes creativas tras la firma ZAP & BUJ. Dos arquitectas cuyas carreras han creado sinergias con el mundo de la moda. En 2017 co-fundan su propia marca de moda con la firme convicción de la necesaria confluencia entre moda y arquitectura. La colección, que descansa bajo el nombre Wall dress, se presentará sobre la pasarela configurándose como la primera de la firma.

Wall dress aproxima la arquitectura al cuerpo haciendo posible la recuperación de la cercanía y conexión entre ambos que se ha ido desvaneciendo en los espacios que habitamos. La propuesta presenta una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierten en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma (MSP y MSA). La firma propone un proyecto en el que han trabajado dentro del campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para el desarrollo de la parte tecnológica de la propuesta, ZAP & BUJ ha colaborado con Aitex, centro de referencia de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil y la confección de textiles técnicos y con el Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros del CSIC.

Sobre la pasarela se presentará una interesante reflexión a modo de diálogo entre arquitectura y moda, dos disciplinas que se conectan en este proyecto mediante innovadores procesos de adaptación gracias a materiales con memoria de forma. Siete planos arquitectónicos flotantes sobre la pasarela se deslizarán delicadamente sobre las modelos convirtiéndose así en patrones de moda.

Samsung EGO Innovation Project ha premiado a la firma ZAP & BUJ con una dotación económica de 10.000€ para el desarrollo de su proyecto. “Ganar este certamen ha sido una inyección brutal de ilusión y energía para nosotras”, comentan Elena Zapico y Raquel Buj. “Nos movemos en un campo de investigación (arquitectura, moda, diseño…) que no es habitual en moda, y que alguien más lo considere tan interesante, como para enseñarlo en pasarela es un sueño “. Por su parte, Luis de la Peña, director de marketing de la división IM de Samsung España, ha comentado que “un año más, el talento y creatividad de los jóvenes creadores ha vuelto a sorprendernos y a descubrirnos nuevas posibilidades en la unión de diseño y tecnología. El proyecto de Elena Zapico y Raquel Buj destaca por su visión de futuro y por la originalidad de su concepto, lo que le hace justo merecedor del premio Samsung EGO Innovation Project”.

 

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